當(dāng)前位置:首頁 > 嵌入式培訓(xùn) > 嵌入式學(xué)習(xí) > 講師博文 > 半導(dǎo)體器件——MOS管
半導(dǎo)體器件是導(dǎo)電性介于良導(dǎo)電體與絕緣體之間,利用半導(dǎo)體材料特殊電特性來完成特定功能的電子器件,可用來產(chǎn)生、控制、接收、變換、放大信 號和進(jìn)行能量轉(zhuǎn)換。
場效應(yīng)晶體管是依靠一塊薄層半導(dǎo)體受橫向電場影響而改變其電阻(簡稱場效應(yīng)),使具有放大信號的功能。這薄層半導(dǎo)體的兩端接兩個電極稱為源和漏。控制橫向電場的電極稱為柵。
根據(jù)柵的結(jié)構(gòu),場效應(yīng)晶體管可以分為三種:
①結(jié)型場效應(yīng)管(用PN結(jié)構(gòu)成柵極);
②MOS場效應(yīng)管(用金屬-氧化物-半導(dǎo)體構(gòu)成柵極,見金屬-絕緣體-半導(dǎo)體系統(tǒng));
③MES場效應(yīng)管(用金屬與半導(dǎo)體接觸構(gòu)成柵極);其中MOS場效應(yīng)管使用最廣泛。尤其在大規(guī)模集成電路的發(fā)展中,MOS大規(guī)模集成電路具有特殊的優(yōu)越性。MES場效應(yīng)管一般用在GaAs微波晶體管上。
在MOS器件的基礎(chǔ)上,又發(fā)展出一種電荷耦合器件 (CCD),它是以半導(dǎo)體表面附近存儲的電荷作為信息,控制表面附近的勢阱使電荷在表面附近向某一方向轉(zhuǎn)移。這種器件通?梢杂米餮舆t線和存儲器等;配上光電二極管列陣,可用作攝像管。
MOS場效應(yīng)管的分類:
MOS場效應(yīng)管按其溝道和工作類型可分為四種:N溝道增強(qiáng)型、P溝道增強(qiáng)型、N溝道耗盡型、P溝道耗盡型。表2.1列出了四種場效應(yīng)管的特點(diǎn)。
特性曲線
圖2.4示出了增強(qiáng)型NMOS管共源電路的轉(zhuǎn)移特性和輸出特性曲線。
圖(a)的轉(zhuǎn)移特性曲線描述MOS管柵源電壓uGS和漏極電流iD之間的關(guān)系。因?yàn)閡GS是輸入回路的電壓,而iD是輸出回路的電流,故稱轉(zhuǎn)移特性?梢钥闯觯
當(dāng)uGS很小時:iD基本上為0,管子截止;當(dāng)uGS大于UTN(UTN稱作開啟電壓)時:iD 隨uGS的增加而增加。
圖(b)的輸出特性曲線描述漏源電壓uDS和漏極電流iD之間的關(guān)系。可以看出,它分作三個區(qū)域:
夾斷區(qū): uGS < UTN的區(qū)域 。在夾斷區(qū),管子處于截止?fàn)顟B(tài),漏源間的等效電阻極高。漏極電流幾乎為0,輸出回路近似開路;
可變電阻區(qū):uGS >UTN且uDS較小(uDS< uGS-UTN)的區(qū)域 。在可變電阻區(qū),iD和uDS之間呈線性關(guān)系,uGS值越大,曲線越陡,漏源間的等效電阻就越小;
恒流區(qū):uGS >UTN且uDS較大(uDS> uGS-UTN)的區(qū)域 。在恒流區(qū),iD只取決于uGS,而與uDS無關(guān)。
表2. 2列出了MOS管工作在截止和導(dǎo)通狀態(tài)時的條件及特點(diǎn)。
表2.2
NMOS管 | PMOS管 | 特 點(diǎn) | |
截止 | uGS <UTN | uGS >UTP | RDS非常大,相當(dāng)于開關(guān)斷開 |
導(dǎo)通 | uGS ³ UTN | uGS £ UTP | rON非常小,相當(dāng)于開關(guān)閉合 |